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[기술&시장 리포트] 반도체 장비용 이중 세라믹 피막 코팅(Double Ceramic Coating)

[기술&시장 리포트] 반도체 장비용 이중 세라믹 피막 코팅(Double Ceramic Coating)

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반도체 제조 장비는 물론 디스플레이, 태양전지 모듈 제조용 플라즈마 장치 등 다양하게 활용되는 반도체 장비 부품용 이중 세라믹 피막 코팅 분야 특허 기술 트렌드 및 시장 동향을 분석한다.

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요약

반도체 장비 부품용 이중 세라믹 피막 코팅은 플라즈마 증착 혹은 에칭, 애싱, 세정 장치에서 장치 내부재(부품)에 내부식성이 우수한 산화물을 열용사 및 저온분사 코팅하는 기술이다.

PECVD, PEALD, 스퍼터 등 반도체 제조 장비는 물론 디스플레이, 태양전지 모듈 제조용 플라즈마 처리 장치의 내부재(부품) 등 다양하게 활용된다.

반도체 장비용 이중 세라믹 피막 코팅 분야 특허 기술 트렌드 및 시장 동향을 살펴본다.

 

총 페이지 :     48 p  

Appendix: 유사 특허 조사리스트 (21개)

별도 부록 :  특허DB 완전정복 (종합편)  80 p  

 

 반도체 장비용 이중 세라믹 피막 코팅 기술 및 시장 

 

반도체 제조장치 중 플라즈마를 이용하는 장치의 내부재(부품)의 부식과 손상을 방지하기 위한 이중 세라믹 피막 코팅 기술 및 사용된 내부재의 코팅을 위한 세정 기술이다.

 

[그림] ] 저온 분사 코팅 개념도

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