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[기술&시장 리포트] 반도체 포토레지스트 조성물(IC negative photoresist)

[기술&시장 리포트] 반도체 포토레지스트 조성물(IC negative photoresist)

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반도체는 물론 LED, PDP 기판 제조 등 다양하게 활용되는 반도체 포토레지스트 조성물 분야 특허 기술 트렌드 및 시장 동향을 분석한다.

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요약

반도체 포토레지스트 조성물은 i-line 자외선에 감응하는 negative photoresist(PR)로 낮은 광에너지로 마이크로미터 이하 수준의 패턴을 형성할 수 있는 소재 기술이다.

반도체 제조용은 물론 LED, PDP 기판제조용 포토레지스트  등 다양하게 활용된다.

반도체 포토레지스트 조성물 분야 특허 기술 트렌드 및 시장 동향을 살펴본다.

 

총 페이지 :     59 p  

Appendix: 유사 특허 조사리스트 (31개)

별도 부록 :  특허DB 완전정복 (종합편)  80 p  

 

반도체 포토레지스트 조성물 기술 및 시장 

 

미세 패턴을 형성하기 위해, 반도체 업계는 감광성이 우수한 고분자재료인 포토레지스트(PR)를 이용한 광학적 기술을 이용해 왔다.

PR은 기능성 고분자 레진을 비롯해 감광성 물질 혹은 광민감성 산 발생제, 산발생 조절제 그리고 추가 첨가제들이 일정비율로 용매에 잘 녹아 있는 상태의 유기 패터닝 소재이다.

 

[그림]  고분자 네가티브 PR을 이용해 무기물에 미세패턴을 만드는 방법에 대한 개념도

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